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一种晶圆表面颗粒清洗双旋喷嘴

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910397648.X
  • IPC分类号:B05B7/04
  • 申请日期:
    2019-05-14
  • 申请人:
    沈阳芯源微电子设备股份有限公司
著录项信息
专利名称一种晶圆表面颗粒清洗双旋喷嘴
申请号CN201910397648.X申请日期2019-05-14
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-11-17公开/公告号CN111940159A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B05B7/04IPC分类号B;0;5;B;7;/;0;4查看分类表>
申请人沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请人地址
辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人沈阳芯源微电子设备股份有限公司当前权利人沈阳芯源微电子设备股份有限公司
发明人彭博;李檀
代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司代理人白振宇
摘要
本发明涉及一种晶圆表面颗粒清洗双旋喷嘴,包括喷嘴外壳及内芯,内芯上开设有液体通道及惰性气体旋转内、外环腔,惰性气体旋转内、外环腔分别连通有惰性气体空间,惰性气体空间开设于内芯上或由内芯与喷嘴外壳内壁之间形成;内芯上开设有用于连通惰性气体空间与惰性气体旋转内环腔以及用于连通惰性气体空间与惰性气体旋转外环腔的布风孔,惰性气体空间内的惰性气体通过布风孔呈旋转状向惰性气体旋转内、外环腔内进气;喷嘴外壳上分别开设有向惰性气体旋转内、外环腔通入惰性气体的惰性气体进气口。本发明通过改变惰性气体旋转方向产生双螺旋或同向螺旋气流及控制惰性气体加速度,同时配合清洗化学液流量,可以达到既对晶圆损伤小,又可以高效清洗晶圆的目的。

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