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具有多个鳍式场效应晶体管的半导体结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710166452.7
  • IPC分类号:H01L27/085;H01L27/088;H01L27/092
  • 申请日期:
    2007-11-13
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称具有多个鳍式场效应晶体管的半导体结构
申请号CN200710166452.7申请日期2007-11-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-12-03公开/公告号CN101315933
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/085IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;8;5;;;H;0;1;L;2;7;/;0;8;8;;;H;0;1;L;2;7;/;0;9;2查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人李宗霖;张长昀;吕升达;杨富量
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人陈红
摘要
本发明涉及一种具有多个鳍式场效应晶体管的半导体结构,包括半导体基材;以及在半导体基材上的表面上设有第一鳍式场效应晶体管与第二鳍式场效应晶体管。第一鳍式场效应晶体管包括第一鳍片;以及覆盖于第一鳍片的上表面及多个侧壁上的第一栅极。第二鳍式场效应晶体管包括与第一鳍片相隔一鳍片间隙的第二鳍片;以及覆盖于第二鳍片的上表面及多个侧壁上的第二栅极。第一栅极与第二栅极为电性隔离。第一栅极与第二栅极的栅极高度大于约一半的鳍片间隙。

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