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带低反射膜的基体及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110539021.0
  • IPC分类号:G02B1/11
  • 申请日期:
    2017-11-13
  • 申请人:
    AGC株式会社
著录项信息
专利名称带低反射膜的基体及其制造方法
申请号CN202110539021.0申请日期2017-11-13
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-14公开/公告号CN113391382A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B1/11IPC分类号G;0;2;B;1;/;1;1查看分类表>
申请人AGC株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人AGC株式会社当前权利人AGC株式会社
发明人藤井健辅
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人杨青;安翔
摘要
本发明涉及带低反射膜的基体及其制造方法。本发明提供一种即使在露出侧面而配置的正面基板等中,在视觉辨认时,其主面与侧面之间的反射光、颜色的变化也少,具有高显示性的带低反射膜的基体。一种带低反射膜的基体(10),其为具有透明基体(11)、设置于透明基体(11)的一个主面的第1低反射膜(12)、以及设置于透明基体(11)的侧面的第2低反射膜(13)的带低反射膜的基体,其中,设置于一个主面的第1低反射膜(12)的光反射率Rtot为1.5%以下,且设置于侧面的第2低反射膜(13)的光反射率Rs为2.5%以下,色度a*为0~4、b*为3~9。

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