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一种低温制备氧氮化铝透明陶瓷的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010049105.8
  • IPC分类号:C04B35/622;C04B35/58
  • 申请日期:
    2010-06-28
  • 申请人:
    中国科学院上海硅酸盐研究所
著录项信息
专利名称一种低温制备氧氮化铝透明陶瓷的方法
申请号CN201010049105.8申请日期2010-06-28
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/622IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;6;2;2;;;C;0;4;B;3;5;/;5;8查看分类表>
申请人中国科学院上海硅酸盐研究所申请人地址
上海市定西路1295号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海硅酸盐研究所当前权利人中国科学院上海硅酸盐研究所
发明人袁贤阳;张芳;刘学建;李军;王士维
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明涉及一种低温制备氧氮化铝透明陶瓷的方法。步骤如下:(1)制备一种含有由Y2O3或其它稀土氧化物和SiO2组成的烧结助剂的氧氮化铝粉体;(2)将得到的粉体过筛、压片成型并冷等静压;(3)将制备的素坯放入碳管炉中并抽真空后充入高纯氮气。将炉温按5~25℃/min的速率升温至1750~1900℃,并保温4~48小时。本发明制备温度低,很好地降低了电力和炉子的损耗,相应地在很大程度上降低了氧氮化铝透明陶瓷的制备成本,制备出氧氮化铝透明陶瓷透过率在45%左右。

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