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利用微影制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02107313.9
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2002-03-14
  • 申请人:
    飞赫科技股份有限公司
著录项信息
专利名称利用微影制程制作喷墨式打印头的喷孔片的方法
申请号CN02107313.9申请日期2002-03-14
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2003-10-01公开/公告号CN1445091
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人飞赫科技股份有限公司申请人地址
台湾省新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人飞赫科技股份有限公司当前权利人飞赫科技股份有限公司
发明人林刘恭;黄怡仁
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人陈红;潘培坤
摘要
一种采用微影制程制作喷孔片的方法,是直接在硅基底上进行压膜、曝光、显影等步骤,可以有效控制喷孔的位置、口径、形状,进而获得高分辨率的喷墨品质。第一种方式是对薄膜进行两道曝光步骤以形成阶梯层的未曝光区域,再对阶梯层的未曝光区域进行一道显影步骤。第二种方式是对薄膜采用两次曝光、两次显影的方式。第三种方式是先对第一薄膜进行曝光,再沉积不同材质的第二薄膜,然后对第一薄膜进行背部显影,接着对第二薄膜进行曝光与显影制程。

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