基板处理装置及基板处理方法

发明专利无效专利

申请号：
CN03142780.4
IPC分类号：B08B3/02;H01L21/304;F26B11/04
申请日期：
2003-06-04
申请人：
东京毅力科创株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置及基板处理方法
申请号	CN03142780.4	申请日期	2003-06-04
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-01-21	公开/公告号	CN1468667
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B3/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B3/00 使用液体或蒸气的清洁方法（B08B 9/00优先） B08B3/02 用喷射力来清洁	IPC分类号	B;0;8;B;3;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;4;;;F;2;6;B;1;1;/;0;4查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	平真树
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	崔幼平;杨松龄

摘要

本发明提供膜片上不发生过大变形的基板处理装置及基板处理方法。在使用在转子上装备的多个保持构件保持基板(W)的周边、使用转子转动和处理基板(W)的基板处理装置中，在上述保持构件中的任何一个上设置给基板(W)的周边施加挤压力的挤压装置(130)，在上述各挤压装置(130)上装备抵接基板(W)的周边的抵接部分(160)、使上述抵接部分(160)在抵接基板(W)的周边的位置和离开基板(W)的周边的位置之间移动的气缸机构(161)、和伴随上述抵接部分(160)的移动弹性变形、把上述气缸机构(161)从上述基板(W)周围的大气隔离的变形部分(162)。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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