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一种双端SRAM单元

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010187381.0
  • IPC分类号:G11C11/413
  • 申请日期:
    2010-05-28
  • 申请人:
    上海宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称一种双端SRAM单元
申请号CN201010187381.0申请日期2010-05-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-09-22公开/公告号CN101840728A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11C11/413IPC分类号G;1;1;C;1;1;/;4;1;3查看分类表>
申请人上海宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人胡剑
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郑玮
摘要
本发明公开了一种双端SRAM单元,该SRAM单元包括CMOS反相器、与所述CMOS反相器相连的第一PMOS晶体管、与所述第一PMOS晶体管相连的第一电阻、与所述第一PMOS晶体管相连的第一传输晶体管及与所述CMOS反相器相连的第二传输晶体管,所述第一传输晶体管为写入操作传输晶体管,所述第二传输晶体管为读取操作传输晶体管,本发明提供的双端SRAM单元仅包含5个晶体管,因而大大节约了双端SRAM单元的面积,并且所述第一电阻的阻值比导通状态下的第一PMOS晶体管的阻值和第一传输晶体管的阻值大几个数量级,比关闭状态下的第一PMOS晶体管的阻值和第一传输晶体管的阻值小几个数量级,从而使得写“0”和写“1”操作都能顺利进行。

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