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一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110365947.2
  • IPC分类号:G02B27/00;G06K9/62
  • 申请日期:
    2021-04-06
  • 申请人:
    北京理工大学
著录项信息
专利名称一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法
申请号CN202110365947.2申请日期2021-04-06
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-16公开/公告号CN113126289A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/00IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;0;0;;;G;0;6;K;9;/;6;2查看分类表>
申请人北京理工大学申请人地址
北京市海淀区中关村南大街5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京理工大学当前权利人北京理工大学
发明人杨通;倪俊豪;程德文;王涌天
代理机构北京理工大学专利中心代理人代丽
摘要
本发明公开了一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法。本发明以视场比需求值小的光学系统作为设计起点,然后逐步增大视场,基于“视场扩展,高斯延拓”的思路,新的高斯函数随着视场的扩展依次添加到曲面边缘,逐步扩展曲面尺寸,通过渐进式优化得到最终满足设计指标的成像系统。本发明方法简单,易于实现,特别适用于大视场成像光学系统设计。本发明为实际成像系统运用高斯径向基函数曲面提供便利,且方便简便、适用性强,对于各种应用、各种系统结构的自由曲面成像系统,都可以用此方法,从一个简单的系统为起点,逐步完成系统设计。

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