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具降低粗糙度之电阻性存储元件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03802305.9
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2003-01-14
  • 申请人:
    因芬尼昂技术股份公司
著录项信息
专利名称具降低粗糙度之电阻性存储元件
申请号CN03802305.9申请日期2003-01-14
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2005-08-10公开/公告号CN1653550
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人因芬尼昂技术股份公司申请人地址
德国慕尼黑 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人因芬尼昂技术股份公司当前权利人因芬尼昂技术股份公司
发明人W·拉伯格
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人程天正;张志醒
摘要
一种电阻性存储元件(144)、磁性随机存取存储器(MRAM)装置及其制造方法,其中薄氧化物层(132)位于该存储元件(144)的第一金属层(136)内。该薄氧化物层(132)包括氧单层。后续形成层(134/118/116)的粗糙度被减少,及该电阻性存储元件(144)的磁能力由使用在该第一金属层(136)内的薄氧化物层(132)加强。

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