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一种芯片晶圆清洗工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110692874.8
  • IPC分类号:H01L21/02;H01L21/67;H01L21/687
  • 申请日期:
    2021-06-22
  • 申请人:
    安徽芯鑫半导体有限公司
著录项信息
专利名称一种芯片晶圆清洗工艺
申请号CN202110692874.8申请日期2021-06-22
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-28公开/公告号CN113451114A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/02IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;7查看分类表>
申请人安徽芯鑫半导体有限公司申请人地址
安徽省马鞍山市郑蒲港新区综合保税区跨境电商产业园4号厂房1层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安徽芯鑫半导体有限公司当前权利人安徽芯鑫半导体有限公司
发明人周蔚
代理机构合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)代理人周卫
摘要
本发明公开了一种芯片晶圆清洗工艺,包括以下步骤:步骤一、启动真空设备抽真空,使芯片晶圆在清洗工艺过程中均处于真空环境,机械手自动抓取贴附晶圆的铁片至清洗工位,将晶圆浸泡在清洗工位上盛放的去胶液中,除去晶圆上的光阻;步骤二、机械手将浸泡后的晶圆取出并固定在清洗工位的上表面,清洗工位开始转动,将聚合物清洗液喷洒到旋转的晶圆上,除去干法刻蚀过程中形成的聚合物;设置的烘干机构中的定位组件配合调节组件,便于对晶圆进行夹持,避免晶圆在烘干过程中出现掉落的问题,第一送风管和第二送风管配合使用,对晶圆的进行热氮气供给,烘干用时更短,效果更好。

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