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多层结构及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201080066016.2
  • IPC分类号:B32B15/08;C09J163/00;C08L63/00
  • 申请日期:
    2010-01-27
  • 申请人:
    陶氏环球技术有限责任公司
著录项信息
专利名称多层结构及其制造方法
申请号CN201080066016.2申请日期2010-01-27
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2012-12-12公开/公告号CN102821947A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B32B15/08IPC分类号B;3;2;B;1;5;/;0;8;;;C;0;9;J;1;6;3;/;0;0;;;C;0;8;L;6;3;/;0;0查看分类表>
申请人陶氏环球技术有限责任公司申请人地址
美国密歇根州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人蓝立方知识产权有限责任公司当前权利人蓝立方知识产权有限责任公司
发明人H.L.方;H.B.方
代理机构北京市嘉元知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人张永新
摘要
本发明是一种多层结构以及其制造方法。该多层结构包括:(a)包括聚合材料的至少一个基材层;(b)至少一个粘合层,其中所述粘合层源自一种粘合促进剂组合物,其包括:至少一种水性环氧树脂分散体,至少一种硬化剂,任选的至少一种流平剂,至少一种增韧剂和任选的至少一种填料;和(c)至少一个包括镀敷金属的表面层;其中所述粘合层设置在所述的至少一个基材层和所述的至少一个表面层之。

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