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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置

实用新型专利无效专利
  • 申请号:
    CN201621161479.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2016-11-01
  • 申请人:
    兰州理工大学
著录项信息
专利名称一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置
申请号CN201621161479.8申请日期2016-11-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人兰州理工大学申请人地址
甘肃省兰州市七里河区兰工坪路287号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人兰州理工大学当前权利人兰州理工大学
发明人王向贤;陈宜臻;王茹;朱小帅;张东阳;庞志远;杨华
代理机构甘肃省知识产权事务中心代理人周立新
摘要
本实用新型公开了一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置。该装置包括He‑Cd激光器,光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器,平面反射镜A、平面反射镜B,光刻胶样品和样品旋转控制系统。He‑Cd激光器发出的激光束经光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器后,成为两束强度相等的激光束,并分别被平面反射镜A、平面反射镜B反射后辐照光刻胶样品进行曝光。通过对光刻胶样品的旋转和多次双光束干涉曝光,以及对激器波长的选择,可刻写制备出一维光栅,二维点阵、六边形、同心等间隔圆环以及纵横周期不同的二维矩形点阵等各种微纳结构。本实用新型具有结构简单、成本低廉的优势,在微纳结构制造领域具有广泛应用。

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