一种IGZO薄膜蚀刻液

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专利名称	一种IGZO薄膜蚀刻液
申请号	CN202010371438.6	申请日期	2020-05-06
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-09	公开/公告号	CN113621373A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09K13/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09K 不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用 C09K13/00 蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物〔2〕	IPC分类号	C;0;9;K;1;3;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;4查看分类表>
申请人	杭州格林达电子材料股份有限公司	申请人地址	浙江省杭州市萧山区杭州萧山临江工业园区红十五路9936号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	杭州格林达电子材料股份有限公司	当前权利人	杭州格林达电子材料股份有限公司
发明人	胡涛;邢攸美;李盈盈;王小眉;方伟华;尹云舰;施珂
代理机构	杭州赛科专利代理事务所（普通合伙）	代理人	郭薇

摘要

本发明是一种IGZO薄膜蚀刻液，由如下重量百分比计的原料制成：2～5wt%的草酸、0.1～1wt%的蚀刻速率稳定剂、1～3wt%的水分挥发抑制剂、0.01‑1wt%的表面活性剂、余量为水，本发明中蚀刻液成分简单，工艺简单，性质稳定，容易储存，蚀刻速率适中，蚀刻均一性好，精度高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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