聚合性不饱和化合物及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200780004550.9
IPC分类号：C08G63/193;C08G63/91;C08G69/26
申请日期：
2007-04-10
申请人：
和光纯药工业株式会社

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著录项信息

专利名称	聚合性不饱和化合物及其制造方法
申请号	CN200780004550.9	申请日期	2007-04-10
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-03-04	公开/公告号	CN101379111
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08G63/193 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物（发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P）〔2〕 C08G63/00 由在高分子主链上形成羧酸酯键的反应制得的高分子化合物（聚酯-酰胺类入C08G 69/44；聚酯-酰亚胺类入C08G 73/16）〔2，5〕 C08G63/02 由羟基羧酸或由多羧酸与多羟基化合物衍行的聚酯〔2〕 C08G63/12 由多羧酸与多羟基化合物衍生的〔2〕 C08G63/16 二羧酸与二羟基化合物〔2〕 C08G63/18 含有碳环的酸或羟基化合物〔2〕 C08G63/19 含芳香环的羟基化合物〔5〕 C08G63/193 含两个或多个芳香环的〔5〕	IPC分类号	C;0;8;G;6;3;/;1;9;3;;;C;0;8;G;6;3;/;9;1;;;C;0;8;G;6;9;/;2;6查看分类表>
申请人	和光纯药工业株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	和光纯药工业株式会社	当前权利人	和光纯药工业株式会社
发明人	保坂幸宏;岛村信孝;井上健一
代理机构	隆天国际知识产权代理有限公司	代理人	高龙鑫

摘要

本发明涉及包含通式(1)所示结构单元而成的化合物及其制造方法，式(1)中，R1、R2、R1’和R2’各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基或烷氧基，R3和R4各自独立地表示氢原子或用通式(2)表示的基团，T1和T2各自独立地表示碳原子数为1～6的直链状亚烷基或亚芳基，U表示单键或用式(1-1)～(1-8)中的任一个表示的2价基团，V1和V2各自独立地表示氧原子或-NH-基团，Y1表示氧原子、-NH-基团或用通式(5)表示的基团，Y2表示氧原子、-NH-基团或用通式(6)表示的基团，Z表示4价的烃基，a和b各自独立地表示0或1，k表示自然数，其中，式(1)中，R6、R8、R9中的至少任意一个是具有双键的基团；-COOR6(2)；

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