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一种半导体器件刻蚀方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510189307.5
  • IPC分类号:H01L21/311
  • 申请日期:
    2015-04-17
  • 申请人:
    上海华虹宏力半导体制造有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体器件刻蚀方法
申请号CN201510189307.5申请日期2015-04-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-06-24公开/公告号CN104733306A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/311
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;1查看分类表>
申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人肖培
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郑玮
摘要
本发明揭示了一种半导体器件的刻蚀方法,在半导体衬底上依次沉积导电层、隔离层、氧化层、底部消反射涂层以及光刻胶层,将光刻胶层图案化,刻蚀露出的消反射涂层以及部分氧化层,然后使用无氧气的刻蚀气体继续刻蚀,使得半导体器件所有部位表面沉积聚合物,用氧气清洗掉凹槽或凹孔底部表面的聚合物,按照方法需求继续刻蚀。本发明通过在氧化层蚀刻出凹孔或者凹槽后,在孔底或者槽底预留一层氧化层,然后使用无氧气的刻蚀气体进行轰击,当氧化层以及孔底部分物质被刻蚀后,孔底或者槽底以及半导体器件表面产生保护性地聚合物,可以保护防止刻蚀气体刻穿孔底或者槽底,也防止表面的氧化层产生腐蚀,达到有效地保护半导体器件的表面以及蚀刻孔底或者槽底物质层的目的。

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