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薄膜应力测量设备及其测量方法

发明专利无效专利

申请号：CN201010504551.3
申请人：徐建康
申请日：2010-10-10
主分类号：G01L1/24
公开（公告）日：2011-04-20
公开/公告号：CN102023068A

申请同类专利

摘要：本发明涉及一种薄膜应力测量设备及其测量方法，在长方体设备机箱中，激光LED、光学反射镜、直线滑轨、探测器、直线滑轨、皆与设备机箱的顶面相联接，直线滑轨置于直线滑轨的下面且垂直相连，托盘、A/D数据采集卡安置在设备机箱的内侧底面上，托盘、A/D数据采集卡、直线滑轨、探测器、直线滑轨皆通过电路与长方体设备机箱外部的计算机相连，本设备采用光灵敏电探测器自动跟踪光路偏转，采集光路偏转位移信号，通过微型步进电机控制转动托盘能迅速地生成一张硅片精确区域的曲率和应力变化的彩图，帮助了解整张硅片表面薄膜的情况，可获取薄膜表面二维以及三维的图象，采用VC++语言编写友好界面，可供进一步扩展程序功能。

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