摘要：本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)，其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110‑140、310‑340、510、610)构成；以及其中每个模块(110‑140、310‑340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)构成，其中通过多个承载结构子元件(121‑124、421、511‑514、612‑614)和/或模块(110‑140、310‑340、510、610)产生子壳体；以及其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络。

摘要：本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)，其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310-340、510、610)构成；以及其中每个模块(110-140、310-340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成，其中通过多个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)和/或模块(110-140、310-340、510、610)产生子壳体；以及其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络。