温室有机基质韭菜盘盆式栽培方法

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温室有机基质韭菜盘盆式栽培方法

发明专利无效专利
  • 申请号:CN200810014738.8
  • 申请人:山东农业大学
  • 申请日:2008-03-06
  • 主分类号:A01G1/00
  • 公开(公告)日:2008-08-13
  • 公开/公告号:CN101238777
申请同类专利

摘要:本发明涉及到温室有机基质韭菜盘盆式栽培方法。利用于该项栽培方法的基质配方:牛粪∶稻壳∶鸡粪∶大田土=4∶2∶1∶1(体积比)。栽培盘一般长37.5~45.5cm(内径长36~44cm),宽27.5~33cm(内宽26~31.5cm),深8~12cm;栽培盆一般上口直径25~30cm,下底直径17~20cm,高20~25cm。将一年生韭菜根株移栽到栽培盘或栽培盆中,移入日光温室的时间是9月下旬~11月下旬,栽培基质按上述配方配制,栽植密度是:栽培盘中,穴距为4.5~5.5cm,每穴栽4~6株韭菜,韭菜栽到栽培盆中呈同心圆状,单位面积株数同栽培盘中。本栽培法取材容易,成本低廉,有机质含量高,韭菜产品品质优异、食用安全性高。

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