摘要：本发明提供一种处理液供给装置，其可以将传送处理液的配管和配管上设置的过滤器、阀和流量计的设置结构简化并使设置空间最小化的同时将过滤后的处理液以所设定的流量有效地供给到使用处。为此，本发明包括供给部，对处理液进行加压；过滤器单元，配置在供给部的下游，去除从供给部传送的处理液内的异物；第一配管单元，连接供给部和过滤器单元；流量调节单元，配置在过滤器单元的下游，将从过滤器单元去除了异物的处理液以所设定的流量供给到使用处；第二配管单元，连接过滤器单元和流量调节单元；排泄单元，结合到过滤器单元的下部并支撑过滤器单元，将过滤器单元的内部存在的处理液排出到外部，流量调节单元包括第一阀部和流量测量部。

摘要：本发明提供一种衬底清洗装置，其可以使用旋转的滚刷来去除衬底处存在的异物，可以清洗从衬底吸附到滚刷上的异物，可以防止在清洗滚刷时从滚刷分离的异物传递到清洗后的衬底。为此，本发明公开了以下特征，包括刷单元，具有滚刷，滚刷在与衬底的下部表面接触的状态下在旋转的同时清洗衬底的下部表面处存在的异物；清洗单元，清洗滚刷处存在的异物，清洗单元包括腔室，在内部具有清洗空间，设置成包围滚刷的一部分，使得滚刷可以与衬底的下部表面接触；喷射模块，在清洗空间内与滚刷隔开配置，朝向滚刷的下部喷射清洗液；隔板部件，至少一部分配置在滚刷和喷射模块之间，防止从喷射模块喷射的清洗液撞击滚刷时产生的雾的扩散。

摘要：本发明提供一种基板传送装置，可以使用将配置在腔室外部的动力产生部和配置在腔室内部的传送部连接的金属丝部件，利用腔室和金属丝部件之间的缩小的摩擦面积使密封面积最小化并大幅减少腔室内部的颗粒产生。为此，本发明提供的基板传送装置包括腔室，具有形成有与处理基板的处理空间连通的贯通孔的侧壁；传送部，配置在处理空间内并具有传送基板的传送轴；动力产生部，以侧壁为基准配置在处理空间的相反侧，产生用于传送基板的驱动力；动力传递部，贯通贯通孔而将动力产生部和传送部连接，并将动力产生部的驱动力传递到传送部，所述动力传递部包括第一连接部件、第二连接部件、以及金属丝部件。

摘要：本发明提供实时监控气体的压差而在超过所设定的压差范围的情况下自动调节排气量并且在紧急情况下能够进行迅速的手动调节的阻尼系统，和可以实时地自动控制工艺室内的压差并提高工艺环境的稳定性和成品的成品率的基板处理装置和基板处理方法。为此，本发明公开的阻尼系统包括壳体，具有气体通过的流路；轴部件，可旋转地结合到壳体；调节板，设置在流路上，与轴部件结合而联动并调节流路的开度；压力传感器，测量第一排气压力与第二排气压力之间的压力差；驱动部，使所述轴部件旋转；以及控制部，控制驱动部，以使第一排气压力与第二排气压力之间的压力差与预先设定的基准压力差一致。

摘要：本发明提供一种滚筒刷，其包含基部，其由管子构成，上述管子由包含碳纤维的塑料系复合材料形成；被覆部，其以包裹上述基部的外周面的方式设置；旋转轴，其设置在上述基部的两侧终端；以及刷子部，其设置在上述被覆部的外周面。本发明的滚筒刷通过由包含碳纤维的塑料系复合材料制作基部而与具有相同大小的以往滚筒刷相比使重量大幅减少，由此使载荷导致的下垂减小，从而能够在降低旋转时产生的振动、噪音的同时将下垂导致的清洗对象物的破损防范于未然。

摘要：本发明提供一种可以防止由异物引起的喷射口的堵塞现象并通过喷射口喷射均匀容量的液体的流体喷射装置。为此，本发明公开了如下特征，即，包括第一板；第二板，与所述第一板结合；以及流体流路，形成在所述第一板和所述第二板之间，并将流体供给口和流体喷射口连接，所述流体流路包括第一缓冲部，被从所述流体供给口流入的流体填充；第一流路，与所述第一缓冲部连接；第二缓冲部，与所述第一流路连接，被通过了所述第一流路的流体所填充；以及第二流路，将所述第二缓冲部和所述流体喷射口连接，所述第一流路的宽度小于所述第二流路的宽度。

摘要：本发明提供一种流量控制装置，其可以阻断与流体的直接接触，抑制流体中的颗粒生成，并且能够进行迅速且准确的流量调节。为此，本发明公开了以下特征，包括配管，具备具有弹性恢复力的主管；壳体，设置成包围所述主管；手柄，与所述壳体可旋转地结合；驱动轴，与所述手柄结合，并且在与所述手柄联动地移动的同时向所述主管方向接近或远离；以及阀单元，与所述驱动轴结合，在与所述驱动轴联动地移动的同时对所述主管加压而使其压缩变形，并且控制通过所述主管的流体的流动。

摘要：本发明提供一种可以进一步增加二氧化碳气体相对于清洗水的溶解度并始终保持均匀的溶解度，从而使清洗水与基板之间的静电产生现象最小化或得到抑制的二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置。为此，本发明公开了一种二氧化碳溶解模块和包括该模块的基板处理装置，所述二氧化碳溶解模块包括：主体，具有主管部和分支管部，所述主管部设置有传送清洗水的第一管路，所述分支管部结合到所述主管部，用于向所述第一管路侧供给二氧化碳气体；以及针型气体注入单元，结合到所述主体，用于向所述第一管路供给二氧化碳气体，所述二氧化碳溶解模块生成电阻率被调节的处理水。

摘要：本发明提供一种基板传送装置，能够实现稳定且精确的基板传送。该基板传送装置包括：传送框架，在两端部处配备有与驱动部结合的连接框架；以及支撑框架，在上部处放置用于传送的基板，并且，具有结合支撑在所述传送框架上的中央支撑部和从所述中央支撑部向两侧延长形成的自由端部，其中，所述支撑框架包括：第一支撑框架，延长形成为在基板的宽度方向上具有第一长度，并且弯曲形成为在下部方向上凸出地具有预先设定的曲率；以及第二支撑框架，结合到所述第一支撑框架的下部，延长形成为具有比所述第一长度短的第二长度，并且，弯曲形成为具有与所述第一支撑框架的曲率相对应的曲率。

摘要：本发明公开了一种基板传送装置用接地单元、基板传送装置用接地单元的组装方法和包括接地单元的基板传送装置。基板传送装置用接地单元包括：支撑块，结合到支撑框架，支撑框架设置有用于传送基板的多个轴单元；支撑板，由导电性材料制成，其长度方向设置为沿着排列有多个轴单元的基板的传送方向，在结合到支撑块的状态下接地；以及电刷，由导电性材料制成，结合到支撑板，沿支撑板的长度方向配置，同时接触多个轴单元。

摘要：本发明提供了一种通过在基板的传送和处理工序中阻止基板的摆动或弯曲现象从而可以防止由冲击引起的基板的破损等并可以稳定地传送基板的基板传送引导装置。为此，本发明公开了以下特征，包括：侧面支撑辊，在与基板的侧面接触而旋转的同时引导基板的传送；下部支撑辊，以所述侧面支撑辊为基准沿基板的宽度方向隔开地配置，并在与基板的下表面接触而旋转的同时支撑基板；基座部件，可旋转地支撑所述侧面支撑辊，并设置成可调节基板的侧面和所述侧面支撑辊之间的间隔；以及下部支撑部件，可旋转地支撑所述下部支撑辊，连接所述基座部件和所述下部支撑辊，并设置成可调节所述下部支撑辊的位置。

摘要：本发明提供可以同时执行基板的干燥及表面处理、利用较少能量而能够有效地进行基板处理的基板处理装置和直列式基板处理系统。包括：第一干燥单元，加热流入到内部的空气，向被传送的基板侧放热，使基板一次干燥；第二干燥单元，沿基板的传送方向与第一干燥单元邻接地配置，使在第一干燥单元的内部被加热的空气流入到其内部，并向通过第一干燥单元的基板喷射被加热的空气，使基板二次干燥；表面处理单元，沿基板的传送方向与第二干燥单元邻接地配置，照射用于生成使用于基板表面改性的反应气体的光，当通过第二干燥单元喷射被加热的空气时，包括反应气体的至少一部分的空气沿表面处理单元的下部和第二干燥单元的下部一起被喷射。

摘要：本发明涉及一种在将基板竖直传送的同时可以将基板姿态从水平状态自动转换为倾斜状态或者从倾斜状态自动转换为水平状态的基板传送装置。本发明的特征在于包括：第一传送部，从第一工序生产线以水平状态传送基板；第二传送部，从配置在比所述第一工序生产线的高度低的高度处的第二工序生产线以倾斜状态传送基板；以及竖直传送部，将基板从所述第一工序生产线竖直传送到所述第二工序生产线侧或者从所述第二工序生产线竖直传送到所述第一工序生产线侧，所述竖直传送部包括：运送器单元，运送运基板出入第一传送部或所述第二传送部；升降单元，用于竖直传送运送器单元；以及倾斜转换单元，用于将水平状态的所述运送器单元转换为倾斜状态。

摘要：本发明提供一种可以通过对面向基板的基板处理单元的位置进行微调节来有效地进行基板处理的基板处理单元的间隔调节装置和使用该间隔调节装置的基板处理装置，包括以下特征：支撑块，支撑基板处理单元；以及升降单元，用于升降所述支撑块，所述升降单元包括：主轴，接受驱动部的驱动力的传递而旋转；偏心轴，以偏心状态轴联到所述主轴；随动部件，设置在所述支撑块上，与所述偏心轴的外周表面接触，在所述偏心轴旋转时使所述支撑块升降；以及引导部件，引导所述支撑块的移动。

摘要：本发明提供一种可以通过对面向基板的基板处理单元的位置进行微调节来有效地进行基板处理的基板处理单元的间隔调节装置和使用该间隔调节装置的基板处理装置，包括以下特征：支撑块，支撑基板处理单元；以及升降单元，用于升降所述支撑块，所述升降单元包括：主轴，接受驱动部的驱动力的传递而旋转；凸轮部件，结合到所述主轴而联动；以及随动部件，设置在所述支撑块上以与所述凸轮部件的外周表面接触，在所述凸轮部件旋转时使所述支撑块升降，所述凸轮部件的半径设置成与沿所述凸轮部件的圆周方向的旋转角成比例。

摘要：本发明涉及提高耐久性、削减使用时的过载、更换和维护便利的基板冲洗装置及其设置方法。基板冲洗装置包括辊刷组件，第一支撑部，第二支撑部，第一旋转部，第二旋转部，以及施压部。辊刷组件具有基管，沿中心轴线方向形成有贯通孔；在基管的外周表面的刷；引入塞，分别耦合到基管的两端并密闭贯通孔。第一、第二支撑部分别间隔配设在辊刷组件的两端。第一旋转部耦合到辊刷组件一端的引入塞，与辊刷组件一体旋转。第二旋转部耦合到辊刷组件另一端的引入塞，与辊刷组件一体旋转。施压部一端耦合到第二支撑部，另一端与第二旋转部耦合，向辊刷组件另一端的引入塞的方向对第二旋转部加压，使第二旋转部耦合到辊刷组件另一端的引入塞。

摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其能够以低压均匀地排出处理液而使雾的产生最小化。该装置包括：湿室，设置成与干室的一侧连接，内部设置有用于处理基板的处理空间；传送单元，包括配置在处理空间的多个传送轴和一对支撑框架，多个传送轴沿传送基板的方向可旋转地配置，一对支撑框架用于支撑多个轴的两侧端；以及喷嘴单元，包括配置在处理空间靠近干室的区域的喷嘴主体，喷嘴主体通过第一板和第二板的结合而构成，在第一板和第二板结合部的前端设置有排出口，以将从外部供给的处理液排出到基板。其中，喷嘴主体的排出口配置在与传送基板的方向相反的方向上，通过排出口排出的处理液以低压排出，并沿基板移动的方向流过基板的表面。

摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其照射紫外线使基板干燥，并且，能够进行使基板的表面具有亲水性的处理。本发明提供的基板处理装置包括：灯组件，包括紫外线灯和反射罩，上述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，上述反射罩配置在上述紫外线灯的上侧，将从上述紫外线灯照射的紫外线反射向基板；气体供应排出装置，设置在上述基板的上侧，用于向上述基板的上面供应气体并排出沿着上述基板的上表面移动的流体；以及壳体，具有容纳空间，上述容纳空间容纳通过上述紫外线灯加热的气体。

摘要：本发明涉及上部气刀和下部气刀构成为一体的气刀模块组件及利用该组件的基板干燥装置。本发明提供一种基板干燥装置，其包括上部气刀；上部支撑单元；下部气刀；下部支撑单元；侧面支撑单元；间隔调节单元，调节上述上部气刀、上述下部气刀与基板之间的间隔；以及角度调节单元，调节上述上部气刀的喷射角度和上述下部气刀的喷射角度的。

摘要：本发明涉及基板清洗装置，更具体地涉及以可倾斜的方式设置刷子，从而能够精密地清洗基板的弯曲表面的基板清洗装置。本发明提供一种基板清洗装置，其特征在于，包括：刷单元，包括用于清洗基板的刷子和配置刷子的刷主体；驱动电机，用于驱动刷子；支撑框架，支撑驱动电机，与刷主体相连；驱动力传送单元，包括驱动力传送轴，驱动力传送轴与驱动电机相连并用于将驱动电机的旋转力传递到刷子；倾斜电机，设置在支撑框架的一侧，用于倾斜刷主体；以及倾斜力传送单元，一侧与倾斜电机相连，另一侧与刷主体相连，将倾斜电机的旋转力传递到刷主体，以便以对应基板的弯曲表面的方式倾斜刷主体。