掩模缺陷检查方法及其应用
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掩模缺陷检查方法及其应用
发明专利无效专利- 申请号：CN03156085.7
- 申请人：株式会社东芝
- 申请日：2003-08-29
- 主分类号：H01L21/66
- 公开（公告）日：2004-04-14
- 公开/公告号：CN1489195
申请同类专利
摘要：一种掩模缺陷检查方法包括关于包括掩模图形的光掩模，就所述掩模图形的多个地点，各自准备根据上述地点上的缺陷对晶片的影响度决定的在所述地点的缺陷检测灵敏度；以及按照所述检测灵敏度，检查所述多个地点上的缺陷。
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