摘要：公开了用于管理单个计算机等内的存储器多OS的方法、系统、设备和计算机产品。利用BIOS辅助对热交换的OS之间的存储器恢复做出规定，并且符合系统状态管理的ACPI特征以及能够使用而无虚拟化。

摘要：公开了用于管理单台计算机等等内的多个OS的方法、系统、设备和程序产品。制作措施以用于通过BIOS辅助来交换OS并且符合特别如与ACPI系统休眠状态S3相关的系统状态管理的ACPI特征。

摘要：通过采用用于消除、控制或以其他方式影响冗余分组处理操作的装置来改善一组分组处理设备当中的网络处理负荷的分布。在一个实施例中，存在至少两个分组处理设备，二者都能够处理从中流过的数据分组，诸如依照来自过滤器组的一个或多个过滤器来检查、检测并过滤数据分组。通过给分组处理设备中的任一者或两者提供或使得其具有如下能力来控制冗余：所述分组处理设备在其对所述数据分组的所述检查期间检测到例如先前已由另一分组处理设备对所述数据分组执行一个或多个过滤器且然后不对所述数据分组执行先前执行的过滤器。

摘要：涉及个人计算机和共享相似架构的设备的技术被公开。特别示出了一种用于在超级管理器程序和相关应用程序中实现改善的性能和安全性的方法和设备，所述改善的性能和安全性是通过使用多个非易失性存储器实现的。

摘要：本公开涉及一种用在打印系统中的可更换打印部件，所述打印系统包括被配置为容纳所述可更换打印部件的打印机构。所述可更换打印部件包括：电存储装置，其响应于打印系统控制信号而选择性地存储从打印机构接收的信息，所述电存储装置包括：存储部，包含与所述可更换打印部件相关联的数据；以及第一和第二确认字段，被配置为存储能够与所述存储部中包含的数据相关的错误检测代码，以确定该数据是否有效。其中，所述电存储装置被配置为：在从打印机构到存储部的第一数据传输之前，接收与存储部中当前包含的数据相关的错误检测代码并将其存储在第一和第二确认字段中的一个字段中，以及所述电存储装置被配置为：接收与第一数据传输之后存储部中将包含的数据相关的错误检测代码并将其存储在第一和第二确认字段中的另一个字段中。

摘要：一种用于打印设备的流体盒(10)，包括：壳体(12)，其具有基底(14)、第一室(24)和第二室(26)；壁(22)，其从基底(14)向外延伸并基本与基底(14)垂直，壁(22)被设置成将壳体(12)分隔开，从而形成第一室(24)和第二室(26)；空气/墨水交换口(32)，其被限定在壁(22)的底部，并邻近基底(14)；纵向气流限制部件(52)，其被布置于基底(14)上并邻近空气/墨水交换口(32)，纵向气流限制部件(52)向外延伸预定距离进入第一室(24)或第二室(26)。

摘要：一种数据处理网络具有虚拟硬盘驱动器仿真器和共享虚拟磁盘映像的客户端终端。支持选定文件或目录的客户端专用读写操作版本。所有客户端使用相同的名字和地址标识符来访问客户端专用版本(例如，对于给定配置文件使用相同文件名)，但每个客户端都具有专有版本。文件ID区分相应的客户端。这些文件与其他类型和属性的其他文件一起被保存。选择为客户端专用的文件可以被预定，或者如果客户端对客户端专用文件或区域执行写操作则可以产生客户端专用版本的文件，写入的数据包括由客户端读取的在客户端可用的任何存储区域(RAM、虚拟磁盘驱动器、硬盘驱动器等)中的数据。该技术支持定制同时最大化对操作系统版本的管理控制并且最小化冗余存储。客户端终端的文件访问可以接近具有本地硬驱动器的系统。

摘要：本发明涉及双控网架构。采用双控网架构的一种电子通信网络包括连接面和控制面，所述控制面包括用于检查由所述控制面接收的包的至少一个控制节点。所述控制面配置为在将所述包发送到电子通信网络中的任何其它节点之前对所述至少一个控制节点接收的所述包执行网络业务控制功能。所述网络业务控制功能包括接入控制、攻击控制和应用控制中的一个或多个。

摘要：本发明的实施例包括通过在打印机消耗品(110)制造期间在打印机消耗品存储器设备(116)上存储一个或多个静态阈值电平(710，720)并且特性化墨或者调色剂，来补偿不同的墨或者调色剂的特征之间的变化以及传感器之间的变化的方法和设备。当安装在打印机(326)中时，动态阈值(710，720)可基于静态阈值电平(610)来确定；动态阈值考虑了传感器间和打印机之间的变化。动态阈值(710，720)可进一步存储在打印机消耗品存储器设备(116)上。

摘要：一种油墨，可提供在介质上具有清晰且平滑边缘的文字打印和改善的总体打印质量的具有优异图像的优质喷墨打印。每种含水油墨含有一种阴离子着色剂(CMYK)、一种短链醇或二元醇和一种阳离子表面活性剂。

摘要：一种燃料电池组件(10)，包括基板(16)和设置在基板(16)上的具有从基板向外突出的肋的电解质(20)。此肋具有第一和第二侧面(21a和21b)和顶表面。阳极设置在第一侧面上；阴极设置在第二侧面(21a)上。燃料电池还包括在从阳极、阴极、电解质中、肋和基板之间以及这些位置的任何组合中选出的位置处设置的电阻加热器(18)。

摘要：一种在包括多个服务器及服务节点的分布式计算机系统内生成服务需求到服务器容量的自动映射的方法。该方法建立服务器模型层和服务模型层以及一组服务器及服务属性值，其与该多个服务器及服务节点相关联。标准化每组服务器属性值及服务属性值并生成服务节点到服务器节点上的映射。

摘要：一种数据存储器件，它包括电阻式存储单元(170、173、175、177)的阵列(165)以及电气连接到阵列(165)的电路。电阻式存储单元(170、173、175、177)包括与二极管(260)电气连接的磁性随机访问存储器单元(265)。该电路能够向阵列(165)中的一些电阻式存储单元(170、173、175、177)施加第一电压，向阵列(165)的其它单元(170、173、175、177)施加第二电压，以及向阵列(165)的另外单元(170、173、175、177)施加第三电压。此外，一种方法，它用于使用该电路感测所选电阻式存储单元(175)的电阻状态。

摘要：提供了一种使用安装在诸如用户偶尔拜访的办公室的远距离位置的输出设备来打印数据的系统。该系统包括存储可以使用对象标识符作为搜索密钥来检索的一个或者多个信息许可证的信息许可证数据库。该系统还包括响应用户移动设备通过因特网发送的标识符搜索信息许可证数据库以向用户提供服务信息的服务入口。对于在系统中注册的输出设备的每一个，该数据库存储包括用于访问输出设备的信息的访问信息许可证。服务入口搜索该数据库以检索由从用户移动设备发送的标识符识别的输出设备的许可证，并且依据从许可证获得的信息把移动设备指定的数据输出到输出设备上。

摘要：本发明公开了一种采用扫描光学器件的投影仪。若干发光源(102)所具有的强度根据图象而变化。这些发光源输出的光被扫描光学器件(108)扫描，以按照图象覆盖一个二维平面。

摘要：电可寻址数据存储装置80具有在单一基片90上的数据存储阵列81－89的行和列的矩阵。每个阵列14是由行线18和列线20连接的共面数据存储二极管单元16的矩阵，用于记录、寻址和读出数据。多个阵列81－89的地址线91、92、97、98和电源线104－106、120－122分别连接到阵列81、84、87和87、88、89、使得只有所选数据存储单元150所在的阵列87中的数据存储二极管单元能够工作，从而消除所有其它数据存储装置阵列中不必要的功率损耗。控制器(未示出)使行地址线91、92和列地址线97、98能够选择性地对所选阵列87的数据存储二极管单元150寻址。

摘要：本发明公开了一种加工高密度亚光刻图形的方法。此方法包括使用普通的微电子工艺包括形成亚光刻间隔和镶嵌工艺来在衬底(11，71)所含图形的垂直侧壁面上形成一些亚光刻间隔(33，53，83，93)。此亚光刻间隔(33，53，83，93)的周期小于光刻系统的最小分辨率λ。通过对材料的后续淀积，并经各向异性刻蚀来有选择地除掉被淀积材料的水平表面，可以增加在光刻系统最小分辨率λ范围内图形包括亚光刻间隔(33，53，83，93)的密度。可以选择地，可以将间隔材料共形淀积。

摘要：一种打印装置接收与被打印图像有关的图像数据元素，并在所述打印装置控制下产生打印元件控制指令以与多个打印笔(比如喷墨笔)通信。所述的打印装置包括：一个半色调处理器，用于接收所述的图像数据元素并从中产生一种半色调数据组；以及多个与所述半色调处理器相连的打印元件控制器，每个打印元件控制器适用于从所述半色调数据组中产生打印元件控制指令以驱动不同的打印元件。

摘要：本发明公开了一种制造亚光刻尺寸通路(31)的方法。采用双聚合物方法形成聚合物材料叠层，其中第一聚合物层(11)具有第一蚀刻速率，第二聚合物层(13)具有第二蚀刻速率。第一蚀刻速率被预先设定为当对第一和第二聚合物层(11、13)进行各向同性蚀刻时快于第二蚀刻速率。第二聚合物层(13)由光敏材料制成，且用作第一聚合物层的蚀刻掩模。蚀刻持续进行直至第一聚合物层(11)具有小于光刻系统的光刻极限λL的亚光刻特征尺寸SF。介电材料(25)淀积在蚀刻掩模(19)和第一聚合物层(11)上。第一聚合物层(11)被移除从而形成亚光刻尺寸通路(31)。

摘要：本发明披露了一种亚光刻尺寸线和间隔图案的制造方法。本方法包括对传统微电子处理技术的应用，如光刻图案化和蚀刻、多晶硅沉积、多晶硅氧化、多晶硅氧化蚀刻、多晶硅湿蚀刻和等离子体蚀刻，以及化学机械平面化。特征尺寸大于或等于光刻极限的多晶硅线特征在包括氧气的等离子体中被氧化。氧化形成了一个亚光刻尺寸多晶硅核和一个氧化多晶硅罩层，氧化硅多晶罩层包括同样具有亚光刻特征尺寸的沿着亚光刻尺寸多晶硅核的侧壁表面的一部分。当平面化和对多晶硅或氧化多晶硅进行选择性蚀刻后，就形成了若干亚光刻尺寸线和间隔图案。这些线和间隔图案可应用于纳米压印光刻的压印模。