微细图案胶版印刷用多层结构硅转印布

专利类型:
发明专利(1)
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微细图案胶版印刷用多层结构硅转印布

发明专利无效专利
  • 申请号:CN200980146869.4
  • 申请人:SSCP株式会社
  • 申请日:2009-11-24
  • 主分类号:B41N10/04
  • 公开(公告)日:2011-10-19
  • 公开/公告号:CN102224014A
申请同类专利

摘要:本发明涉及一种微细图案胶版印刷用硅转印布,包括增加低乙烯基聚硅氧烷的含量并添加硅橡胶胶料而提高了溶剂吸收率的第一层、增加高乙烯基聚硅氧烷的含量而提高了机械强度的第二层,本发明的寿命较长而且初始印刷品质优异。

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