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多通道天然气部分氧化制合成气烧嘴

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申请号：CN02151238.8
申请人：华东理工大学;中国石化集团兰州设计院
申请日：2002-12-12
主分类号：C01B3/34
公开（公告）日：2003-07-23
公开/公告号：CN1431143

委托购买

摘要：本发明公开了一种多通道天然气部分氧化制合成气烧嘴，由中心假件、气化剂导管、天然气导管、蒸汽导管和各导管相固接的相应喷口，以及冷却系统诸零部件组合而成。由于本发明的烧嘴设计了多通道结构，形成多股流体的强烈湍动，促进了氧气、天然气和蒸汽三者之间的快速均匀混合，从而提高天然气的转化率和气化炉出口合成气的有效组分含量，圆满地实现了天然气氧化制合成气。此外，通过提高气体流速和缩小喷口收缩角，降低了气化炉上部的燃烧强度；通过设置冷却系统，良好地保护了烧嘴，延长了烧嘴的使用寿命。

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