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坩埚的温度分布计算方法
发明专利有效专利摘要:本发明提供一种相较于现有技术精度更高的温度分布计算方法,该温度分布计算方法利用边界条件来计算制造时的氧化硅粉末成形体内面的温度分布,该边界条件是将根据电弧放电的等离子辐射和电弧放电自身的热辐射考虑在内,并以实测温度进行补偿的边界条件。本发明的制造时的坩埚温度分布计算方法,该方法具有一温度计算过程,在该温度计算过程中,温度计算部计算出热流束,并利用数值计算方法求出温度分布,在此,该热流束是从热等离子向氧化硅粉末成形体内面的热流束,该热等离子将从电弧电极放射的热等离子用以气流及辐射进行模型化,该氧化硅粉末成形体内面嵌合在作为坩埚模型的模具内面,该温度分布是氧化硅粉末成形体内面的温度分布,该数值计算方法是以网格划分被计算对象的数值计算方法;并且,预先调整气流及辐射条件,从对应表格读入该气流及辐射条件,并计算温度分布,在此,所述调整是使得计算结果的温度分布和、实测的氧化硅粉末成形体内面的温度分布保持相同的调整,所述气流及辐射条件对应于生成坩埚时的控制序列的各步骤。
*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供