发光或者受光用半导体器件及其制造方法

专利类型:
发明专利(1)
专利有效性:
无效专利(1)
法律状态:
权利终止(1)
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公开(公告)时间
申请时间

发光或者受光用半导体器件及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:CN00812460.4
  • 申请人:中田仗祐
  • 申请日:2000-10-20
  • 主分类号:暂无
  • 公开(公告)日:2002-10-09
  • 公开/公告号:CN1373907
申请同类专利

摘要:具有受光功能的半导体器件(10)例如具备由p型的硅单结晶形成的半导体元件(1)、第1,第2平坦面(2,7)、n型扩散层(3)及其pn结(4)、再结晶层(8)、防反射膜(6a)、负电极(9a)以及正电极(9b)等。替代该半导体元件(1)也能够采用圆柱状的半导体元件。

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