具有单一平面天线的电感耦合双区域处理室
专利
专利类型：
专利有效性：
法律状态：
高级筛选：
路标网共为您找到相关结果1个
公开(公告)时间
申请时间
具有单一平面天线的电感耦合双区域处理室
发明专利无效专利- 申请号：CN200880022326.7
- 申请人：朗姆研究公司
- 申请日：2008-06-24
- 主分类号：H01L21/3065
- 公开（公告）日：2010-06-02
- 公开/公告号：CN101720500A
申请同类专利
摘要：提供一种双区域等离子体处理室。该等离子体处理室包括具有适于在该处理室中支撑第一衬底的第一支撑表面的第一衬底支柱和具有适于在该处理室中支撑第二衬底的第二支撑表面的第二衬底支柱。流体连通于一个或多个气体分配构件的一个或多个气体源向毗邻该第一衬底支柱的第一区域和毗邻该第二衬底支柱的第二区域供应处理气体。适于将射频能量电感耦合到该处理室内部并将该处理气体在该第一和第二区域中激励到等离子态的射频(RF)天线。该天线位于该第一衬底支柱和该第二衬底支柱之间。
著录信息权利要求说明书PDF全文法律状态引证文献
- 1
没找到想要的结果？为您推荐专业专利顾问检索
具有单一平面天线的电感耦合双区域处理室 专利，更快更准确
免费
我想查:已帮助11143361位用户进行查询在售专利 早买早用
更多>
*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供
- 热门业务
- 常用工具
- 规则与服务
- 商务合作
- 关于我们
- 服务热线路标网：023-88392937
快申报：023-88392959
工作日：9:00-12:00/13:30-18:00
商标进度查询
风险动态监测预警
北京聚集科技有限公司版权所有
Copyright @ CHATM ALL Right Reserve
免责声明：本网站部分内容由用户自行上传，如权利人发现存在误传其作品情形，请及时与本站联系删除：chatm@zbj.com
