光学记录介质和其制造方法
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光学记录介质和其制造方法
发明专利无效专利- 申请号：CN89108246.8
- 申请人：三井石油化学工业株式会社
- 申请日：1989-10-27
- 主分类号：暂无
- 公开（公告）日：1990-05-16
- 公开/公告号：CN1042259
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摘要：本发明所揭示的是包括基体、在基体上形成的记录层和在记录层上形成的保护层的光学记录介质及其制造方法，其中记录层由一束能量照射，由此造成记录层上受照射部分的相变，以此来记录信息其中所述记录层是包含Te和N的薄膜，如果必要所述记录层还可进一步包含Pd。
著录信息权利要求说明书PDF全文法律状态引证文献
光学记录介质和其制造方法
发明专利有效专利- 申请号：CN90110053.6
- 申请人：三井石油化学工业株式会社
- 申请日：1989-10-27
- 主分类号：暂无
- 公开（公告）日：1991-08-07
- 公开/公告号：CN1053688
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摘要：本发明所揭示的是包括基体、在基体上形成的记录层和在记录层上形成的保护层的光学记录介质及其制造方法，其中记录层由一束能量照射，由此造成记录层上受照射部分的光学性能改变，以此来记录信息，其中所述记录层是包含Te和N的薄膜，如果必要，所述记录层还可进一步包含Pd。
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