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一种致密石墨相氮化碳膜的制备方法及其应用

发明专利有效专利

申请号：CN202111168247.0
申请人：黄河三角洲京博化工研究院有限公司
申请日：2021-10-08
主分类号：B01D71/02
公开（公告）日：2021-11-02
公开/公告号：CN113578072A

委托购买

摘要：本发明提供了一种致密石墨相氮化碳膜的制备方法，本发明通过真空抽滤的方法将g‑C3N4纳米片沉积到多孔的纳米AAO上制备成g‑C3N4纳米片薄膜，然后以三聚氰胺为前驱体，通过化学气相沉积的方法将气相g‑C3N4沉积在g‑C3N4纳米片薄膜的缝隙中，从而制备出一种致密的g‑C3N4薄膜，利用膜材料本身所具有的亚纳米孔结构实现有机物的截留和高盐水的脱盐。实验结果表明，本发明制备的g‑C3N4膜对水合半径大于Mg2+的金属离子均具有一定的截留的效果，因此，所制备的g‑C3N4膜能够实现高盐水的脱盐，同时对大分子有机物有很好的截留效果。本发明还提供了一种致密石墨相氮化碳膜在水处理中的应用。

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