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一种复合相位掩模板及成像系统

发明专利无效专利

申请号：CN200910097178.1
申请人：浙江大学
申请日：2009-03-26
主分类号：G02B27/46
公开（公告）日：2009-08-19
公开/公告号：CN101510011

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摘要：本发明公开了一种复合相位掩模板，其特征在于：所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含指数型和一次方型两种函数，相位分布函数θ(x，y)的函数式如下：θ(x，y)＝α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)+κ·(x+y)，式中，α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)为指数型函数，κ·(x+y)为一次方型函数；其中，α、β为指数函数调制因子，κ为相位调制因子，x，y为孔径平面归一化的空间坐标。本发明还公开了一种采用指数型和一次方型两种函数复合的复合相位掩模板的成像系统，该成像系统可以明显地改善采用指数型相位分布函数掩模板成像系统所固有的相位传递函数偏移现象。

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