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一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置
实用新型无效专利摘要:本实用新型公开了一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置。该装置包括He‑Cd激光器,光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器,平面反射镜A、平面反射镜B,光刻胶样品和样品旋转控制系统。He‑Cd激光器发出的激光束经光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器后,成为两束强度相等的激光束,并分别被平面反射镜A、平面反射镜B反射后辐照光刻胶样品进行曝光。通过对光刻胶样品的旋转和多次双光束干涉曝光,以及对激器波长的选择,可刻写制备出一维光栅,二维点阵、六边形、同心等间隔圆环以及纵横周期不同的二维矩形点阵等各种微纳结构。本实用新型具有结构简单、成本低廉的优势,在微纳结构制造领域具有广泛应用。
一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置
发明专利有效专利摘要:本发明公开了一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置。该装置包括He‑Cd激光器,光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器,平面反射镜A、平面反射镜B,光刻胶样品和样品旋转控制系统。He‑Cd激光器发出的激光束经光电快门,短焦距透镜、长焦距透镜,分束器后,成为两束强度相等的激光束,并分别被平面反射镜A、平面反射镜B反射后辐照光刻胶样品进行曝光。通过对光刻胶样品的旋转和多次双光束干涉曝光,以及对激器波长的选择,可刻写制备出一维光栅,二维点阵、六边形、同心等间隔圆环以及纵横周期不同的二维矩形点阵等各种微纳结构。本发明具有结构简单、成本低廉的优势,在微纳结构制造领域具有广泛应用。
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