一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法

专利类型:
发明专利(1)
专利有效性:
有效专利(1)
法律状态:
实质审查(1)
高级筛选:

路标网共为您找到相关结果1

公开(公告)时间
申请时间

一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法

发明专利有效专利
  • 申请号:CN201910341472.6
  • 申请人:大连理工大学
  • 申请日:2019-04-26
  • 主分类号:G06F17/50
  • 公开(公告)日:2019-08-09
  • 公开/公告号:CN110110413A
委托购买

摘要:一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,解决传统密度法拓扑优化,由于设计变量过多、需要相对密度或灵敏度过滤措施等产生的计算效率低下问题。通过定义一种考虑相关性的有界材料场,采用谱分解方法变换为一系列待定系数的线性组合,并以这些待定系数作为设计变量,基于单元密度插值模型构建优化模型,采用梯度类或非梯度类优化算法对拓扑优化问题进行求解,进而高效率获得带有清晰边界的拓扑构型。该方法能够大幅度减少密度法拓扑优化中的设计变量个数,同时具有完全避免网格依赖性和棋盘格式问题的天然优势。该方法还继承了密度法形式简单,便于工程化推广等优点,优化求解速度快,将保证复杂装备结构创新拓扑设计的研发效率。

著录信息权利要求说明书PDF全文法律状态引证文献
  • 1
前往
没找到想要的结果?为您推荐专业专利顾问检索  一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法 专利,更快更准确
免费
我想查:已帮助11107632位用户进行查询

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供