一种基于密度分布矩阵的大规模仿真体系的表征方法

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一种基于密度分布矩阵的大规模仿真体系的表征方法

发明专利无效专利
  • 申请号:CN200810023129.9
  • 申请人:赵健伟
  • 申请日:2008-07-29
  • 主分类号:G06F19/00
  • 公开(公告)日:2009-01-07
  • 公开/公告号:CN101339585
申请同类专利

摘要:本发明公开了一种基于密度分布矩阵的大规模仿真体系的表征方法。首先对于一个有限空间中的所有位置统计粒子质点的存在状况,并对统计数据进行离散化处理,得到一个三维的原子密度分布矩阵;把密度分布矩阵投影到一个平面上;对原子密度分布矩阵进行采样;利用逆投影重建一定精度的三维图像。本发明可以在仿真过程中即时地按照一定的分辨率要求生成类似于透射电镜的照片的平面投影结果,并可进一步对所仿真的体系进行分析。对于目前纳米材料和器件的研究中比较关注的一维或准一维体系,还可以得到纵向密度分布函数,并直接引用信息科学中有关信号处理的理论和技术进行分析。同时,本发明所生成的数据记录文件的大小是传统方法记录的文件大小的1/50~1/100。

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