一种单价阴离子选择性分离膜及其制备方法
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一种单价阴离子选择性分离膜及其制备方法
发明专利有效专利- 申请号：CN201810997116.5
- 申请人：中国科学技术大学先进技术研究院
- 申请日：2018-08-29
- 主分类号：B01J41/13
- 公开（公告）日：2018-12-18
- 公开/公告号：CN109012761A
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摘要：本发明公开了一种单价阴离子选择性分离膜的制备方法，包括以下步骤：将卤甲基化聚合物溶解于有机溶剂中，形成卤甲基化聚合物溶液；向所述卤甲基化聚合物溶液中加入叔胺单体进行反应，得到季铵化聚合物；将所述季铵化聚合物溶解得到膜液，将膜液涂于基体上烘干，得到单价阴离子选择性分离膜；本发明还公开了一种单价阴离子选择性分离膜。本发明制备方法简单，可大规模产业化生产，其产品耐碱性优越，选择分离性能显著，且具有较高离子通量。
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