一种光闸莫尔条纹焦面检测方法
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一种光闸莫尔条纹焦面检测方法
发明专利无效专利- 申请号：CN201110169156.9
- 申请人：中国科学院光电技术研究所
- 申请日：2011-06-17
- 主分类号：G03F7/20
- 公开（公告）日：2011-11-02
- 公开/公告号：CN102231046A
申请同类专利
摘要：本发明是一种光闸莫尔条纹焦面检测系统，用于投影光刻机非接触快速焦面检测，该装置包括照明光源、扩束准直镜组、第一光栅、第一远心成像镜组、第二远心成像镜组、第二光栅、聚光镜、光电检测单元和硅片组成，该系统基于三角测量的基本原理，利用双光栅光闸莫尔条纹的光强调制特性，构建单个光栅周期内，焦面位移量和光能量线性关系。该系统是一种非接触、快速的光学测量手段，为投影光刻高精度实时焦面检测提供有效手段。
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